8486 30 100 0
установки для химического осаждения из паровой фазы на подложки жидкокристаллических устройств
ТН ВЭД ЕАЭСКод
8486 30 100 0 — установки для химического осаждения из паровой фазы на подложки жидкокристаллических устройств
ОКПД 2Сопоставление с ОКПД 2 (1)
28.99.20 — Оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев Эта группировка также включает: - оборудование для производства печатных плат