3 71 112 00 00 0
Отходы производства диодов, транзисторов и прочих полупроводниковых приборов, включая светоизлучающие диоды, пьезоэлектрические приборы и их части
Нажмите, чтобы скопировать
ФККОКод
3 71 112 00 00 0 — Отходы производства диодов, транзисторов и прочих полупроводниковых приборов, включая светоизлучающие диоды, пьезоэлектрические приборы и их части
?Расшифровка кода ФККО
| 3 | знак 1 | Блок — происхождение по виду деятельности: Отходы обрабатывающих производств |
| 71 112 00 | знаки 2–8 | Происхождение вида отходов и их состав: тип 71 · подтип 11 · группа 2 · подгруппа 0 · позиция 0 |
| 00 | знаки 9–10 | Агрегатное состояние и физическая форма: не установлены |
| 0 | знак 11 | Класс опасности (0 — не установлен, I–V): не установлен |
Код ФККО состоит из 11 знаков: знак 1 — блок (вид деятельности); знаки 2–8 — происхождение вида отходов и его состав (тип 2–3, подтип 4–5, группа 6, подгруппа 7, позиция 8); знаки 9–10 — агрегатное состояние и физическая форма; знак 11 — класс опасности.
⋮Расположение в каталоге ФККО (что означают цифры)
тип: 3 70 000 00 00 0 — ОТХОДЫ ПРОИЗВОДСТВА МАШИН И ОБОРУДОВАНИЯ
› подтип: 3 71 000 00 00 0 — Отходы производства компьютеров, электронных и оптических изделий
› группа: 3 71 100 00 00 0 — Отходы производства элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)
› подгруппа: 3 71 110 00 00 0 — Отходы производства элементов электронной аппаратуры
› подтип: 3 71 000 00 00 0 — Отходы производства компьютеров, электронных и оптических изделий
› группа: 3 71 100 00 00 0 — Отходы производства элементов электронной аппаратуры и печатных схем (плат)
› подгруппа: 3 71 110 00 00 0 — Отходы производства элементов электронной аппаратуры
▸Входящие коды (10)
3 71 112 31 39 4 — Отходы механической обработки кварца при изготовлении изделий пьезоэлектроники, содержащие нефтепродукты (содержание нефтепродуктов менее 10%)
3 71 112 32 40 4 — Отходы кристаллического кварца при его распиловке для изготовления изделий пьезоэлектроники незагрязненные
3 71 112 35 20 4 — Отходы серебра при металлизации поверхности изделий пьезоэлектроники
3 71 112 41 60 2 — Отходы текстильных изделий из хлопчатобумажного волокна, загрязненных мышьяком при ионном легировании в производстве базовых матричных кристаллов
3 71 112 51 10 3 — Воды, содержащие галогенированные растворители, при промывке пьезоэлементов
3 71 112 52 10 3 — Растворители нефтяного происхождения, загрязненные фоторезистом при промывке керамических диэлектриков
3 71 112 53 10 2 — Отходы ацетона, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов
3 71 112 54 10 2 — Отходы смеси диметилформамида и моноэтаноламина, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов
3 71 112 55 10 3 — Диметилформамид обводненный, загрязненный фоторезистом при обезжиривании и промывке поверхности полупроводниковых пластин и удалении фоторезиста
3 71 112 56 10 3 — Отходы смеси ацетона, изопропилового спирта, диметилформамида, загрязненные фоторезистом при отмывке пластин и оснастки в производстве полупроводниковых материалов
3 71 112 32 40 4 — Отходы кристаллического кварца при его распиловке для изготовления изделий пьезоэлектроники незагрязненные
3 71 112 35 20 4 — Отходы серебра при металлизации поверхности изделий пьезоэлектроники
3 71 112 41 60 2 — Отходы текстильных изделий из хлопчатобумажного волокна, загрязненных мышьяком при ионном легировании в производстве базовых матричных кристаллов
3 71 112 51 10 3 — Воды, содержащие галогенированные растворители, при промывке пьезоэлементов
3 71 112 52 10 3 — Растворители нефтяного происхождения, загрязненные фоторезистом при промывке керамических диэлектриков
3 71 112 53 10 2 — Отходы ацетона, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов
3 71 112 54 10 2 — Отходы смеси диметилформамида и моноэтаноламина, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов
3 71 112 55 10 3 — Диметилформамид обводненный, загрязненный фоторезистом при обезжиривании и промывке поверхности полупроводниковых пластин и удалении фоторезиста
3 71 112 56 10 3 — Отходы смеси ацетона, изопропилового спирта, диметилформамида, загрязненные фоторезистом при отмывке пластин и оснастки в производстве полупроводниковых материалов